Em Angola

Huawei investe 60 milhões USD em parque tecnológico

A Huawei Angola vai investir 60 milhões de dólares na construção de um parque oficial, para formação e partilha de experiência sobre as novas tecnologias mais avançadas.

Huawei investe 60 milhões USD em parque tecnológico
D.R

O investimento foi hoje abordado no encontro que o director da Huawei em Angola, Chu Xiaoxin, manteve com o vice-presidente de Angola, Bornito de Sousa.

Em declarações após a audiência, Chu Xiaoxin disse que o parque será construído no próximo ano, e integra as componentes da formação de quadros e partilha de experiências.

"Vamos formar os talentos angolanos, segundo temos o centro de educação, vamos acompanhar com os nossos parceiros e clientes para a inovação das novas tecnologias, e depois temos um centro de experiência, vamos trazer as tecnologias mais avançadas e novas para a sociedade angolana", explicou o responsável da multinacional chinesa.

Segundo Chu Xiaoxin, o investimento total é de mais de 60 milhões de dólares e a sua inauguração e entrada em funcionamento está prevista para Dezembro do próximo ano, para formação de mais de 1.500 parceiros ou engenheiros.

Chu Xiaoxin salientou que no encontro, além de abordar as operações da empresa em Angola, informou também os esforços de doação e contribuição da Huawei, no âmbito da responsabilidade social.

"Especialmente algumas doações de equipamentos tecnológicos para a sociedade angolana e como os nossos negócios ficaram afectados pela pandemia. Mas temos toda a confiança para acompanhar os esforços de desenvolvimento do Governo", frisou.

Na semana passada, a multinacional assinou com o Ministério das Relações Exteriores um memorando de entendimento no domínio da formação de talentos em tecnologias de informação e comunicação (TIC).

A empresa prevê disponibilizar 500 horas de formação em TIC a 50 funcionários públicos, para aprenderem as tecnologias mais recentes na indústria, e 3.000 horas de treino de certificação da Huawei para funcionários relacionados com as TIC.